大家好,今天小編關(guān)注到一個(gè)比較有意思的話題,就是關(guān)于清華機(jī)械原理的問題,于是小編就整理了4個(gè)相關(guān)介紹清華機(jī)械原理的解答,讓我們一起看看吧。
- 清華大學(xué)光刻方案原理?
- 機(jī)械制造技術(shù)基礎(chǔ)指定參考書具體是編寫的,有哪幾本?
- 考研清華大學(xué)人工智能要考什么專業(yè),考些什么?
- 如何看待清華大學(xué)團(tuán)隊(duì)新型粒子加速器光源“穩(wěn)態(tài)微聚束”的首個(gè)原理驗(yàn)證實(shí)驗(yàn)? 離實(shí)際應(yīng)用還有多遠(yuǎn)?
清華大學(xué)光刻方案原理?
清華大學(xué)光刻方案是一種用于微電子制造中的光刻技術(shù),其原理基于光的干涉和衍射效應(yīng)。
光刻技術(shù)是微電子制造中的關(guān)鍵技術(shù)之一,主要用于制造集成電路中的微細(xì)結(jié)構(gòu)。清華大學(xué)光刻方案的原理是,在光刻膠層上涂覆一層薄膜,然后使用激光將薄膜表面照射,使得膠層上的某些區(qū)域被曝光,形成一個(gè)光刻圖形。
在清華大學(xué)光刻方案中,光刻圖形是通過將激光束分為兩束,一束稱為參考光束,另一束稱為蝕刻光束。參考光束經(jīng)過分束器后,照射到光刻膠層表面,形成一個(gè)參考光刻圖形,蝕刻光束則通過透鏡和反射鏡的組合,使其與參考光束重合,并照射到膠層表面。
當(dāng)參考光束和蝕刻光束重合時(shí),膠層表面會(huì)被照射到,形成一個(gè)光刻圖形。然后,使用化學(xué)蝕刻技術(shù),將膠層表面的未曝光部分去除,留下被曝光的膠層部分,形成一個(gè)微細(xì)結(jié)構(gòu)。這樣,就可以通過多次曝光和化學(xué)蝕刻的過程,制造出復(fù)雜的微細(xì)結(jié)構(gòu),如晶體管、集成電路等。
總的來說,清華大學(xué)光刻方案利用光的干涉和衍射效應(yīng),通過控制光束的路徑和強(qiáng)度,將膠層表面曝光和去除,從而實(shí)現(xiàn)微細(xì)結(jié)構(gòu)的制造。
清華大學(xué)光刻方案是基于光刻技術(shù)的半導(dǎo)體集成電路制造方法之一。其原理是通過光刻機(jī)將光刻膠涂覆在硅片表面,然后利用投影光刻的原理,在光刻膠上照射出芯片圖形,通過光刻膠的光學(xué)特性使芯片圖形被轉(zhuǎn)移到硅片表面上。最后通過蝕刻等工藝步驟將芯片圖形轉(zhuǎn)化為電路結(jié)構(gòu)。該方案具有結(jié)構(gòu)復(fù)雜度高、制造精度高等優(yōu)點(diǎn),是現(xiàn)代半導(dǎo)體工業(yè)中最重要的制造技術(shù)之一。
機(jī)械制造技術(shù)基礎(chǔ)指定參考書具體是編寫的,有哪幾本?
指定參考書目大連理工大學(xué)教授賈振元和王福吉主編的《機(jī)械制造技術(shù)基礎(chǔ)》,由科學(xué)出版社出版。
說下 拓展適用資料書目 吧《金屬切削原理試題精選與答題技巧》,王娜君主編,哈爾濱工業(yè)大學(xué)出版社。《機(jī)械制造工藝學(xué)試題精選與答題技巧》,李旦主編,哈爾濱工業(yè)大學(xué)出版社。以上兩本簡(jiǎn)稱哈工大小冊(cè)子,必選,11、12年都有原題?!稓v年真題解析》必選,可***用弘毅考研系列資料。《機(jī)械制造技術(shù)基礎(chǔ)》,盧秉恒主編,機(jī)械工業(yè)出版社。《機(jī)械制造工業(yè)學(xué)》,清華大學(xué)王先逵主編,機(jī)械工業(yè)出版社?!督饘偾邢髟怼?,陳日曜主編,機(jī)械工業(yè)出版社。以上三本供學(xué)有余力的同學(xué)參考,因?yàn)?a href="http://xiupc.cn/tags-x-x.html" target="_blank" class="QIHEIHQ045e5e343228d8a3 relatedlink">學(xué)校指定教材在某些章節(jié)講述不夠詳細(xì)。考研清華大學(xué)人工智能要考什么專業(yè),考些什么?
人工智能屬于計(jì)算機(jī)專業(yè)類別的。?初試科目包括:101思想政治理論、201英語一、301數(shù)學(xué)一、912計(jì)算機(jī)專業(yè)基礎(chǔ)綜合。復(fù)試專業(yè)科目包括:軟件工程、人工智能、數(shù)據(jù)庫原理(三選二)。清華人工智能學(xué)堂班(簡(jiǎn)稱“智班”)宣布成立。成立智班是清華在人工智能整體學(xué)科布局上的重要舉措,既是對(duì)清華乃至國(guó)家在人工智能領(lǐng)域優(yōu)化科技創(chuàng)新體系和學(xué)科體系布局的積極響應(yīng),也將進(jìn)一步拓展清華拔尖創(chuàng)新人才培養(yǎng)的學(xué)科格局。
如何看待清華大學(xué)團(tuán)隊(duì)新型粒子加速器光源“穩(wěn)態(tài)微聚束”的首個(gè)原理驗(yàn)證實(shí)驗(yàn)? 離實(shí)際應(yīng)用還有多遠(yuǎn)?
感謝邀請(qǐng)。
EUV光刻機(jī)制造難度更大,因此,每年能夠生產(chǎn)出的數(shù)量也有限;這就導(dǎo)致了幾家芯片制造巨頭爭(zhēng)搶EUV光刻機(jī)。清華團(tuán)隊(duì)基于SSMB的EUV光源有望實(shí)現(xiàn)大的平均功率,并具備向更短波長(zhǎng)擴(kuò)展的潛力,有助于突破大功率EUV光源。如果能夠成功得到應(yīng)用,那么我們卡脖子的問題也逐步會(huì)被解決了。
一項(xiàng)科研技術(shù)的成功需要不斷的嘗試不斷的開始才擁有最后的成果,我們普通人不能做出直接的貢獻(xiàn),更不要總是反對(duì),我們的國(guó)家總是會(huì)越來越好的!
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