大家好,今天小編關(guān)注到一個比較有意思的話題,就是關(guān)于青海真空鍍膜機機械泵原理的問題,于是小編就整理了4個相關(guān)介紹青海真空鍍膜機機械泵原理的解答,讓我們一起看看吧。
真空鍍膜機的原理?
現(xiàn)有的真空鍍膜機,主要用于一些放氣量較少的普通玻璃上鍍膜,由于大面積有機玻璃放氣量較大,熱變形溫度低,剛性低,因此現(xiàn)有的真空鍍膜機無法鍍制大面積有機玻璃?,F(xiàn)有的鍍膜機蒸發(fā)源間呈正方形分布,這樣鍍出的膜層均勻性差,無法保證大面積有機玻璃在鍍制過程中不變形。為了克服現(xiàn)有技術(shù)之不足,提供一種真空鍍膜系統(tǒng),本系統(tǒng)由真空鍍膜系統(tǒng)和真空手套箱系統(tǒng)集成而成,可在高真空蒸鍍腔室中完成薄膜蒸鍍,并在手套箱高純惰性氣體氛圍下進行樣品的存放、制備以及蒸鍍后樣品的檢測。 蒸發(fā)鍍膜與真空手套箱組合,實現(xiàn)蒸鍍、封裝、測試等工藝全封閉制作,使整個薄膜生長和器件制備過程高度集成在一個完整的可控環(huán)境氛圍的系統(tǒng)中,消除有機大面積電路制備過程中大氣環(huán)境中不穩(wěn)定因素影響,保障了高性能、大面積有機光電器件和電路的制備。真空鍍膜系統(tǒng)用途:主要用于太陽能電池鈣鈦礦、OLED和PLED、半導體制備等實驗研究與應(yīng)用。
真空鍍膜機的,粗抽閥,前級閥,精抽閥,它們的作用是什么,求行家解答,謝了?
機械抽取真空的過程相當于接力跑,初期從大氣狀態(tài)開始一般使用旋片泵、滑閥泵等,當達到初級泵的極限后就要更換為高真空泵,如羅茨泵、分子泵、擴散泵、冷泵等,在泵與泵之間用于隔斷或轉(zhuǎn)換的就是你說的那些閥門。
爐內(nèi)真空電鍍原理?
爐內(nèi)真空電鍍的原理是通過在真空環(huán)境下,將所需要鍍的材料放置在爐子內(nèi)部,并附上電極,在電場的作用下,通過等離子體釋放的離子沉積在材料表面,形成一層不同的材質(zhì)薄膜。
這種方法可以制備出一些高質(zhì)量的表面膜,具有獨特的性質(zhì)和應(yīng)用價值。
爐內(nèi)真空電鍍技術(shù)已廣泛應(yīng)用于電子、航空、工業(yè)、醫(yī)療等領(lǐng)域,如電子產(chǎn)業(yè)中的集成電路、平板顯示器等,航空領(lǐng)域中的發(fā)動機渦輪葉片等,醫(yī)療領(lǐng)域中的人工器官等。
隨著科技的發(fā)展,爐內(nèi)真空電鍍技術(shù)在材料表面處理領(lǐng)域中還將有更廣闊的應(yīng)用前景。
真空磁控濺射鍍膜原理?
原理濺射鍍膜的原理是稀薄氣體在異常輝光放電產(chǎn)生的等離子體在電場的作用下,對陰極靶材表面進行轟擊,把靶材表面的分子、原子、離子及電子等濺射出來,被濺射出來的粒子帶有一定的動能,沿一定的方向射向基體表面,在基體表面形成鍍層。
電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發(fā)生碰撞,電離出大量的氬離子和電子,電子飛向基片。氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜。二次電子在加速飛向基片的過程中受到磁場洛侖磁力的影響,被束縛在靠近靶面的等離子體區(qū)域內(nèi),該區(qū)域內(nèi)等離子體密度很高,二次電子在磁場的作用下圍繞靶面作圓周運動,該電子的運動路徑很長,在運動過程中不斷的與氬原子發(fā)生碰撞電離出大量的氬離子轟擊靶材,經(jīng)過多次碰撞后電子的能量逐漸降低,擺脫磁力線的束縛,遠離靶材,最終沉積在基片上。磁控濺射就是以磁場束縛和延長電子的運動路徑,改變電子的運動方向,提高工作氣體的電離率和有效利用電子的能量。電子的歸宿不僅僅是基片,真空室內(nèi)壁及靶源陽極也是電子歸宿。但一般基片與真空室及陽極在同一電勢。磁場與電場的交互作用( E X B drift)使單個電子軌跡呈三維螺旋狀,而不是僅僅在靶面圓周運動。至于靶面圓周型的濺射輪廓,那是靶源磁場磁力線呈圓周形狀形狀。磁力線分布方向不同會對成膜有很大關(guān)系。在E X B shift機理下工作的不光磁控濺射,多弧鍍靶源,離子源,等離子源等都在次原理下工作。所不同的是電場方向,電壓電流大小而已。
磁控濺射的基本原理是利用 Ar一02混合氣體中的等離子體在電場和交變磁場的作用下,被加速的高能粒子轟擊靶材表面,能量交換后,靶材表面的原子脫離原晶格而逸出,轉(zhuǎn)移到基體表面而成膜。
磁控濺射的特點是成膜速率高,基片溫度低,膜的粘附性好,可實現(xiàn)大面積鍍膜。該技術(shù)可以分為直流磁控濺射法和射頻磁控濺射法。
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