大家好，今天小編關(guān)注到一個(gè)比較有意思的話題，就是關(guān)于機(jī)械原理中微代表什么的問(wèn)題，于是小編就整理了3個(gè)相關(guān)介紹機(jī)械原理中微代表什么的解答，讓我們一起看看吧。
- 中微是什么課程？
- 傳上海微電子研發(fā)出11nm光刻機(jī)，請(qǐng)問(wèn)是真的嗎？有誰(shuí)知道？
- 請(qǐng)問(wèn)，被稱為芯片的“魄”，國(guó)產(chǎn)蝕刻機(jī)在世界上處于什么水平？
中微是什么課程？
中微是俗稱,全名叫“中級(jí)微觀經(jīng)濟(jì)學(xué)”,算是經(jīng)濟(jì)學(xué)里面的中階教程。
《中級(jí)微觀經(jīng)濟(jì)學(xué)》開創(chuàng)性地使用了連貫的敘述方式，將微觀經(jīng)濟(jì)學(xué)的所有核心概念和基本原理置于一個(gè)連續(xù)變化的社會(huì)中，從生動(dòng)的社會(huì)演化過(guò)程中，使讀者徹底理解社會(huì)如何從一個(gè)原始的自然狀態(tài)開始，逐步發(fā)展到現(xiàn)代社***具有的各種特征和制度安排。
傳上海微電子研發(fā)出11nm光刻機(jī)，請(qǐng)問(wèn)是真的嗎？有誰(shuí)知道？
目前上海微電子裝備中心能夠生產(chǎn)出最好的光刻機(jī)，依然是90nm光刻機(jī)。據(jù)報(bào)道，上海微電子將在2021年交付***用ARF光源制程工藝為28納米的光刻機(jī)。也就意味著上海微電子裝備有限公司在2021年才可以制造出28nm的光刻機(jī)，顯然上海微電子裝備有限公司研發(fā)出11nm的光刻機(jī)，這條消息是***的。
國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)與世界頂級(jí)的光刻機(jī)有多大的差距？
上海微電子裝備有限公司生產(chǎn)的90nm光刻機(jī)就是目前我國(guó)最好的光刻機(jī)，聽到這個(gè)消息，大家可能會(huì)感到非常的吃驚，但是事實(shí)就是這樣的。世界上最好的光刻機(jī)是由荷蘭的ASML公司生產(chǎn)的5nm光刻機(jī)，今年即將發(fā)布的麒麟1020處理器以及蘋果A14處理器你都是***用的5nm制程工藝。
雖然說(shuō)，上海微電子裝備有限公司已經(jīng)生產(chǎn)出了90nm的光刻機(jī)，但是實(shí)際意義并不是很大，也解決不了目前我國(guó)的芯片問(wèn)題。90nm技術(shù)已經(jīng)滿足不了現(xiàn)在芯片的需要了，我們現(xiàn)在手機(jī)以及電腦使用的芯片，已經(jīng)達(dá)到了14nm、7nm，甚至5nm。我們現(xiàn)在還停留在90nm光刻機(jī)上，所以國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)與世界頂級(jí)的光刻機(jī)有著2-3代的差距，我們還需要十年左右的時(shí)間才可以達(dá)到7nm技術(shù)。
我國(guó)為什么做不出先進(jìn)的光刻機(jī)？
其實(shí)我國(guó)研發(fā)光刻機(jī)的時(shí)間并不是很晚，我國(guó)做出第一臺(tái)光刻機(jī)時(shí)，荷蘭ASML公司都還沒(méi)有成立。在八十年代的時(shí)候，我們的企業(yè)產(chǎn)生了“買辦”的思想，很多企業(yè)覺(jué)得自己去研發(fā)，不如去買。因?yàn)檠邪l(fā)需要投入太多的資金，并且風(fēng)險(xiǎn)也非常的大，不如直接購(gòu)買國(guó)外的光刻機(jī)。從那以后，我們的光刻機(jī)技術(shù)與國(guó)外光刻機(jī)技術(shù)的差距越來(lái)越大了，以至于我們現(xiàn)在用十年的時(shí)間也追趕不上了。
近幾年很多企業(yè)也越來(lái)越重視光刻機(jī)的研究，但是已經(jīng)晚了。對(duì)于一臺(tái)光刻機(jī)來(lái)說(shuō)，有8萬(wàn)多個(gè)零件，幾乎每一個(gè)零件都是世界頂級(jí)的。光刻機(jī)最重要零部件就是光源與鏡頭，目前極紫外光源技術(shù)只有被ASML掌握了，自然ASML不會(huì)將極紫外光源賣給我們。全球范圍內(nèi)能生產(chǎn)出最好的鏡頭的企業(yè)是德國(guó)蔡司，根據(jù)西方國(guó)家簽訂的《瓦森納協(xié)定》，西方國(guó)家一些精密零件是不能向我國(guó)出口的。所以說(shuō)即使將頂級(jí)光刻機(jī)的設(shè)計(jì)圖紙給我們，我國(guó)也做不出來(lái)，這句話一點(diǎn)也不***。
筆者觀點(diǎn)：
光刻機(jī)的發(fā)展并不是一蹴而就的，需要長(zhǎng)期的積累。ASML生產(chǎn)的光刻機(jī)，也并非都是自己生產(chǎn)的，美國(guó)、日本、德國(guó)等國(guó)家都在參與。
既然我們買不到先進(jìn)的光刻機(jī)以及光刻機(jī)的零件，那我們只能自己造。光刻機(jī)的問(wèn)題并不是一家企業(yè)可以搞定的，需要我國(guó)整個(gè)半導(dǎo)體行業(yè)的共同努力！
傳上海微電子研發(fā)出11nm光刻機(jī)，請(qǐng)問(wèn)是真的嗎？有誰(shuí)知道？據(jù)傳上海微電子明年將交付可以28nm制程工藝的光刻機(jī)，經(jīng)過(guò)多重曝光可以制造11nm芯片。不過(guò)這個(gè)消息上海微電子的官方消息并沒(méi)有披露或回應(yīng)，還沒(méi)有實(shí)錘，是否真是如此還顯得撲朔迷離。
國(guó)內(nèi)光刻機(jī)研發(fā)進(jìn)度相對(duì)比較緩慢，但因?yàn)槊绹?guó)對(duì)我國(guó)科技的極端打壓、以及特別是國(guó)外對(duì)我國(guó)高科技技術(shù)及產(chǎn)品的禁運(yùn)，現(xiàn)在可以制造低納米的高端光刻機(jī)顯得又緊迫又非常有必要。上海微電子經(jīng)過(guò)18年的發(fā)展歷程，在低端光刻機(jī)市場(chǎng)擁有不小的份額，但在中高端光刻機(jī)市場(chǎng)還沒(méi)有沖擊力，目前還僅限于90nm級(jí)制程工藝。
國(guó)外ASML的EUV光刻機(jī)可以達(dá)到13.5nm的波長(zhǎng)，可以達(dá)到7nm制程工藝的芯片制造，經(jīng)過(guò)如臺(tái)積電這樣的廠家制造工藝技術(shù)的研發(fā)，甚至可以達(dá)到制造5nm的芯片。而相對(duì)來(lái)說(shuō)，上海微電子的距離還相當(dāng)遠(yuǎn)。
明年是否能夠?qū)崿F(xiàn)28nm制程工藝的光刻機(jī)，恐怕也是外界對(duì)于上海微電子的期許，也是上海微電子自身的需要，畢竟90nm級(jí)已經(jīng)出來(lái)了十多年了，還幾乎停止不前也有些不太合理。據(jù)傳，28nm節(jié)點(diǎn)的光刻機(jī)是十三五規(guī)劃項(xiàng)目，研發(fā)單位已經(jīng)由中科院光電所研發(fā)解決光源、清華團(tuán)隊(duì)研發(fā)雙工件臺(tái)、浙大團(tuán)隊(duì)研發(fā)浸液系統(tǒng)、還有長(zhǎng)春光機(jī)所研發(fā)透鏡及曝光系統(tǒng)等，由不同的零部件制造廠家生產(chǎn)，這為上海微電子加速了28nm浸沒(méi)式光刻機(jī)的出世。
這個(gè)消息不好定論，提供多少納米工藝一般指光波長(zhǎng)，11nM特意避開常用波長(zhǎng)怕別人記不??？我所知道的好用的激光器一般規(guī)格是一樣的基波長(zhǎng)，然后都攜帶一串幅度減小的多個(gè)高次諧波，1/3，1/5，1/7波長(zhǎng)…有限一連串的波，用濾波器把波長(zhǎng)極短的那個(gè)給濾出來(lái)做為最小的光斑使用，所以少有8，9，10nM的波長(zhǎng)，所以11nM有沒(méi)有難說(shuō)，請(qǐng)大家判斷，或請(qǐng)發(fā)消息者說(shuō)明是哪來(lái)的。
國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)如果能到11nm的程度，那么華為也不會(huì)陷入到“無(wú)芯可用”的尷尬境地。準(zhǔn)確的說(shuō)應(yīng)該是研發(fā)微電子研發(fā)的28nm光刻機(jī)將在2021年正式落地，這款光刻機(jī)有生產(chǎn)11nm芯片的能力。
從光源上細(xì)分現(xiàn)在世界上光刻機(jī)的發(fā)展前后已經(jīng)經(jīng)歷了五代，第四代光刻機(jī)使用的是波長(zhǎng)為139納米的Arf光源的光刻機(jī)，其制程工藝節(jié)點(diǎn)為130納米-65納米，45納米-22納米。如果從這點(diǎn)上看上海微電子研發(fā)的28nm的光刻機(jī)是一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)的四代光刻機(jī)。
世界最先進(jìn)的第五代光刻機(jī)使用的是波長(zhǎng)為13.5納米的EUV光源的極紫外光刻機(jī)，其制程節(jié)點(diǎn)為22納米-7納米。這個(gè)領(lǐng)域的產(chǎn)品基本上全被ASML把持著，無(wú)人能撼動(dòng)其王者的地位。
雖然上海微電子和ASML差距極大，但是它在低端光刻機(jī)市場(chǎng)依舊表現(xiàn)不俗，并在國(guó)內(nèi)占據(jù)了80%的市場(chǎng)份額。
從目前曝光的信息上看，上海微電子研發(fā)的28nm的光刻機(jī)有生產(chǎn)11nm芯片的能力，這對(duì)華為來(lái)說(shuō)絕對(duì)是一個(gè)天大的好消息。
目前臺(tái)積電在加班加點(diǎn)的趕制華為最新麒麟芯片的訂單，按照華為的公司戰(zhàn)略，一般采購(gòu)的芯片足夠支撐公司兩年使用。雖然最新的芯片***用了5nm的工藝，但是在11nm工藝的加工下依舊能用，當(dāng)然不可避免的后果就是芯片體積變大、性能下降以及發(fā)熱量提高，但是這比被完全被美國(guó)卡住脖子強(qiáng)太多了。
況且只要能熬過(guò)這幾年，隨著國(guó)家***對(duì)光刻機(jī)領(lǐng)域的傾斜以及中美關(guān)系的改善，芯片問(wèn)題也很可能會(huì)迎來(lái)新轉(zhuǎn)機(jī)。
其實(shí)這點(diǎn)很多科技領(lǐng)域的專家都做過(guò)預(yù)測(cè)，追趕是肯定追趕不上ASML的腳步了，但是達(dá)到ASML現(xiàn)在的水平還是有可能的。當(dāng)然專家們給了一個(gè)不太樂(lè)觀的預(yù)測(cè)，那就是達(dá)到ASML現(xiàn)在的水平至少要10~20年左右。
ASML其實(shí)類似于一個(gè)組裝工廠，它設(shè)計(jì)出來(lái)最新的光刻機(jī)后需要從全世界***購(gòu)最先進(jìn)的零件，進(jìn)而拼裝組成一***整的光刻機(jī)。現(xiàn)在這些零件商把持著所有零件的銷售，即使我們拿到了ASML的圖紙，沒(méi)有零件依舊白搭。
這意味著我們需要在光刻機(jī)的每個(gè)領(lǐng)域都要取得突破，除非得到國(guó)家的鼎力支持，否則光靠一個(gè)上海微電子還是過(guò)于勢(shì)單力薄了。
對(duì)于我國(guó)來(lái)說(shuō)，光刻機(jī)又是一項(xiàng)“卡脖子”設(shè)備。上海微電子能夠量產(chǎn)90nm工藝的光刻機(jī)，而荷蘭ASML最新的光刻機(jī)可以生產(chǎn)5nm芯片。最新消息，2021年上海微電子交付28nm光刻機(jī)，在多次曝光的條件下，可以生產(chǎn)11nm芯片。這是真的嗎？下文具體說(shuō)一說(shuō)。
上海微電子即將交付的是一臺(tái)ArF光源光刻機(jī)，核心配件全部來(lái)自于國(guó)內(nèi)供應(yīng)鏈：
這些核心配件由上海微電子負(fù)責(zé)總體集成，其中華卓精科工作臺(tái)的套刻精度指標(biāo)優(yōu)于1.7nm，經(jīng)過(guò)多次曝光有生產(chǎn)11nm制程工藝的潛力。中微半導(dǎo)體也推出了5nm制程的蝕刻機(jī)，南大光電研發(fā)出193nm光刻膠，華為自研的EDA進(jìn)行了7nm驗(yàn)證。總之，國(guó)產(chǎn)11nm光刻機(jī)即將來(lái)臨。
目前，光刻機(jī)領(lǐng)域的龍頭企業(yè)是荷蘭的ASML，占據(jù)了80%的高端光刻機(jī)市場(chǎng)，其中EUV光刻機(jī)只有荷蘭ASML能夠生產(chǎn)。EUV光刻機(jī)***了世界上最先進(jìn)的技術(shù)，可以說(shuō)是集人類智慧于大成。
其實(shí)，荷蘭ASML也只是系統(tǒng)集成商，90%的關(guān)鍵零部件來(lái)自于外來(lái)，美國(guó)的光源和計(jì)量設(shè)備、瑞典的軸承、德國(guó)的鏡頭、法國(guó)的閥件等等，這些超精密的儀器和設(shè)備大部分對(duì)我國(guó)是禁運(yùn)的。由于技術(shù)封鎖，一定程度上阻撓了我國(guó)光刻機(jī)技術(shù)的發(fā)展。
請(qǐng)問(wèn)，被稱為芯片的“魄”，國(guó)產(chǎn)蝕刻機(jī)在世界上處于什么水平？
我認(rèn)為什么水平不重要，只要有就是好事，1949年我們有什么，1***8年改革開放前三十年中國(guó)走了西方國(guó)家?guī)装倌甑?a href="http://xiupc.cn/tags-g-y.html" target="_blank" class="QIHEIHQ2354a01996e67448 relatedlink">工業(yè)社會(huì)，1***8后至今的四十年中國(guó)的進(jìn)步速度令西方國(guó)家絕望，他們不自信了才打壓我們，超越西方技術(shù)，領(lǐng)先全球只是時(shí)間問(wèn)題，我不應(yīng)唱衰，相信祖國(guó)，相信我的民族自信。
先回答核心問(wèn)題，我國(guó)蝕刻機(jī)處于世界領(lǐng)先水平，可以生產(chǎn)5nm技術(shù)的蝕刻機(jī)！但是，蝕刻機(jī)相比較于光刻機(jī)而言，技術(shù)含量要低很多，兩者完全不在一個(gè)檔次。
1、中微掌握先進(jìn)蝕刻機(jī)技術(shù)
國(guó)內(nèi)掌握領(lǐng)先蝕刻技術(shù)的企業(yè)叫中微半導(dǎo)體，2017年4月時(shí)中微曾公開宣布掌握5nm工藝蝕刻技術(shù)，同年底可以出工程樣機(jī)，這個(gè)宣布時(shí)間比掌握相同5nm蝕刻技術(shù)的IBM早了2周的時(shí)間?？梢娭形?/span>在蝕刻機(jī)領(lǐng)域不說(shuō)全面領(lǐng)先，那至少也是和世界最高水平相持平。
中微生產(chǎn)的蝕刻機(jī)目前已經(jīng)被全球多家代工廠商使用，其中就有臺(tái)積電，早前7nm的蝕刻機(jī)在臺(tái)積電有廣泛的應(yīng)用。5nm的蝕刻機(jī)有消息稱現(xiàn)在也已經(jīng)量產(chǎn)，并已通過(guò)臺(tái)積電的驗(yàn)證，未來(lái)將供貨給臺(tái)積電用于5nm芯片的生產(chǎn)線。
2、中微蝕刻機(jī)市場(chǎng)應(yīng)用份額較低
中微的蝕刻機(jī)目前主要應(yīng)用于三個(gè)方面，我們熟知的半導(dǎo)體、IC芯片制造使用的是等離子蝕刻機(jī)，主要機(jī)型有Primo AD-RIE、Primo D-RIE等，其次是應(yīng)用于半導(dǎo)體封裝的硅通孔蝕刻機(jī)，以及適用于LED芯片聲場(chǎng)的MOCVD設(shè)備，前兩類設(shè)備目前已經(jīng)應(yīng)用于全球20多條一流生產(chǎn)線。
但是就當(dāng)前中微的全球市場(chǎng)份額而言并不高，根據(jù)權(quán)威機(jī)構(gòu)的統(tǒng)計(jì)，中微的蝕刻機(jī)僅占1.4%左右的市場(chǎng)份額。而全球范圍內(nèi)目前總計(jì)有5家企業(yè)能生產(chǎn)蝕刻機(jī)，除了中微半導(dǎo)體外，剩下均為日美企業(yè)，分別為與泛林、應(yīng)用材料、東京電子、日立，其中泛林占有全球55%的份額。
Lscssh科技官觀點(diǎn)
綜合來(lái)說(shuō)，蝕刻機(jī)領(lǐng)域我國(guó)的技術(shù)水平已經(jīng)和國(guó)外競(jìng)爭(zhēng)者持平，但是就市場(chǎng)占有率而言，中微的差距還很大，畢竟日美這些傳統(tǒng)強(qiáng)者在這個(gè)領(lǐng)域并未衰退，想要從他們口中搶食并非一朝一夕能成。相信未來(lái)的中微不僅能在技術(shù)上超越競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手，在市場(chǎng)份額上也能持續(xù)蠶食競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手們。
蝕刻機(jī)我國(guó)的水平已經(jīng)達(dá)到了世界一流水平，我們的蝕刻機(jī)水平已經(jīng)達(dá)到了目前世界上最先進(jìn)的5納米級(jí)別，當(dāng)然并不是只有我們自己一家達(dá)到這個(gè)水平，世界上總共能做到5納米級(jí)別的有四五家，我們只是其中一家，日本可以做到，美國(guó)可以做到，歐洲也有一家可以做到這樣的精度，所以說(shuō)我們的蝕刻機(jī)水平是目前世界上最先進(jìn)之一。
而光刻機(jī)能做到5納米級(jí)別的只有一家，屬于世界上最先進(jìn)的水平?jīng)]有之一，蝕刻機(jī)和光刻機(jī)的區(qū)別在于一個(gè)是把半導(dǎo)體納米線路印上去，而蝕刻機(jī)的作用是把光刻機(jī)印在硅片上的多余的殘?jiān)o去除掉，區(qū)別在于一個(gè)是雕刻[_a***_]一個(gè)是打磨精修，刻上去的難度遠(yuǎn)高于精修，所以這也是為什么光刻機(jī)比蝕刻機(jī)重要的原因。
在集成半導(dǎo)體線路里面，最重要的就是光刻機(jī)，第二重要的就是蝕刻機(jī)了，蝕刻機(jī)其實(shí)屬于老二級(jí)別的存在，我們的蝕刻機(jī)屬于世界一流水平，光刻機(jī)就差一點(diǎn)，大概差多少呢，其實(shí)至少在一代半到兩代的差距，也就是說(shuō)我們的差距至少在十年到十五年之間，蝕刻機(jī)已經(jīng)處在最頂級(jí)的一個(gè)層面，并沒(méi)有形成代差。
蝕刻機(jī)雖然也是高尖端科技，但是還是沒(méi)有光刻機(jī)的難度高，能搞定蝕刻機(jī)并不代表光刻機(jī)也一樣，打一個(gè)比方，蝕刻機(jī)的難度是五，那光刻機(jī)的難度就是十甚至十以上，這并不是說(shuō)蝕刻機(jī)難度不高，而是恰恰相反說(shuō)明了光刻機(jī)的難度太高，蝕刻機(jī)的高難度去襯托光刻機(jī)的超高難度，所以并不是說(shuō)我們的科學(xué)家不努力，而是說(shuō)明了光刻機(jī)的尖端。
如何能做到全面達(dá)到頂尖水平，這個(gè)只能從科學(xué)的基礎(chǔ)培養(yǎng)出發(fā)，打好堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)，基礎(chǔ)扎實(shí)了，就像高樓大廈建造，地基做好了才能在地基上面建造更高的樓層，光刻機(jī)為什么沒(méi)有達(dá)到最先進(jìn)水平，那是因?yàn)樵谶@方面我們的基礎(chǔ)沒(méi)有足夠好，所以才沒(méi)有辦法做到高端方面的最頂級(jí)，平衡的科技發(fā)展才是真正的強(qiáng)大，偏科很容易給自己阻礙。
到此，以上就是小編對(duì)于機(jī)械原理中微代表什么的問(wèn)題就介紹到這了，希望介紹關(guān)于機(jī)械原理中微代表什么的3點(diǎn)解答對(duì)大家有用。
