大家好，今天小編關(guān)注到一個(gè)比較有意思的話(huà)題，就是關(guān)于上海工業(yè)機(jī)械配件加工的問(wèn)題，于是小編就整理了1個(gè)相關(guān)介紹上海工業(yè)機(jī)械配件加工的解答，讓我們一起看看吧。
上海微電子已經(jīng)成功生產(chǎn)光刻機(jī)了么？這個(gè)領(lǐng)域國(guó)內(nèi)是什么水平？
上海微電子可以制造光刻機(jī)不是啥新鮮事，人家從2002年就開(kāi)始立項(xiàng)研發(fā)光刻機(jī)了，只是我們技術(shù)實(shí)在落后，人才又缺乏，因此進(jìn)展一直比較緩慢。不過(guò)，進(jìn)入2010年后國(guó)產(chǎn)研發(fā)團(tuán)隊(duì)不斷攻克光刻機(jī)核心子系統(tǒng)的技術(shù)南廣，未來(lái)我國(guó)光刻機(jī)將會(huì)迎來(lái)較快的發(fā)展，基本上可以從低端躍至中端，然后將向最后的高端領(lǐng)域發(fā)起沖擊。
1、上海微電子現(xiàn)有情況：目前國(guó)內(nèi)研發(fā)光刻機(jī)的廠商不少，但屬于領(lǐng)先地位的就只有上海微電子，能量產(chǎn)的90nm光刻機(jī)，其他廠商只能生產(chǎn)200nm、300nm這樣的光刻機(jī)，但在全球光刻機(jī)領(lǐng)域上海微電子屬于低端。
目前，有消息稱(chēng)上海微電子正在研發(fā)28nm節(jié)點(diǎn)光刻機(jī)，但實(shí)際情況未知。如果說(shuō)這臺(tái)28nm節(jié)點(diǎn)的光刻機(jī)能研發(fā)成功，那么我國(guó)芯片生產(chǎn)或?qū)⒒窘鉀Q自主問(wèn)題。
因?yàn)椋?8nm節(jié)點(diǎn)的光刻機(jī)不僅僅只能用來(lái)生產(chǎn)28nm制程芯片，通過(guò)套刻多重曝光可以實(shí)現(xiàn)10nm芯片，如果代工廠技術(shù)過(guò)關(guān)，甚至可以實(shí)現(xiàn)7nm制程芯片。
這意味著在芯片制造設(shè)備領(lǐng)域，我們可以實(shí)現(xiàn)較為先進(jìn)的芯片技術(shù)，至于具體能不能生產(chǎn)就看中芯這類(lèi)代工廠的生產(chǎn)技術(shù)了。
2、我國(guó)在光刻機(jī)領(lǐng)域的水平：全球能做光刻機(jī)的廠商其實(shí)沒(méi)幾家，除了荷蘭ASML，剩下就是日系廠商尼康和佳能，以及我們的上海微電子。
但是從這2年的發(fā)展來(lái)看，未來(lái)這個(gè)領(lǐng)域應(yīng)該只有我們和ASML競(jìng)爭(zhēng)了。日系廠商基本屬于出局狀態(tài)，這塊它們不愿意再進(jìn)行大量的投資，一句話(huà)燒不起這錢(qián)。
目前我國(guó)對(duì)于光刻機(jī)基本屬于舉國(guó)體制運(yùn)作，2009年中科院牽頭執(zhí)行了02專(zhuān)項(xiàng)***，專(zhuān)門(mén)來(lái)解決光刻機(jī)的問(wèn)題。光刻機(jī)由于整個(gè)系統(tǒng)復(fù)雜，牽涉技術(shù)領(lǐng)域較多，因?yàn)楦骱诵淖酉到y(tǒng)均分配給了不同的技術(shù)團(tuán)隊(duì)和廠商來(lái)研發(fā)。
截至2020年，我們已經(jīng)解決了雙工件臺(tái)（下圖）、浸液系統(tǒng)、準(zhǔn)分子激光光源等核心子系統(tǒng)，基本掃清了光刻機(jī)的主要技術(shù)難關(guān)，這些子系統(tǒng)如果放眼全球，基本上都是全球第二或第三掌握這些技術(shù)的廠商。
后續(xù)就看上海微電子如今將這些子系統(tǒng)進(jìn)行整合了，他們只是系統(tǒng)制造商。
說(shuō)到光刻機(jī)，那就是國(guó)人的痛處，畢竟被卡脖子的感覺(jué)真的太難受了，其實(shí)我們?cè)?a href="http://xiupc.cn/tags-b-d-t.html" target="_blank" class="QIHEIHQ86b1043a8fa46661 relatedlink">半導(dǎo)體領(lǐng)域被卡脖子的不只是光刻機(jī)，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈里面，我們能夠自主掌握技術(shù)的不到一半，還有一半要靠外國(guó)的先進(jìn)設(shè)備和技術(shù)做支撐，認(rèn)為只要突破光刻機(jī)技術(shù)就能不受到卡脖子，那其實(shí)就有點(diǎn)想的太簡(jiǎn)單了。
光刻機(jī)的確是非常重要的環(huán)節(jié)，曾經(jīng)在六十年代的時(shí)候，我們的光刻機(jī)水平其實(shí)并不比歐美的差，在六十年代的時(shí)候，我們的機(jī)械領(lǐng)域其實(shí)也并沒(méi)有說(shuō)落后太明顯，只是在特殊的十年當(dāng)中，導(dǎo)致了我們落后，這還只是開(kāi)始，在八十年代的時(shí)候，由于西方先進(jìn)產(chǎn)品進(jìn)入國(guó)內(nèi)市場(chǎng)的影響，又導(dǎo)致了我們?cè)诎司攀甏e(cuò)過(guò)了機(jī)會(huì)。
這樣總共失去三十年的時(shí)間，就是因?yàn)檫@樣才導(dǎo)致了中間的空白期沒(méi)辦法彌補(bǔ)，就算我們后面這二十年的時(shí)間在發(fā)力，但是也很難真正的短時(shí)間內(nèi)趕上，畢竟別人也并沒(méi)有在原地踏步，我們?cè)谶M(jìn)步別人也一樣在前進(jìn)，中間還存在著代差，加上原本工業(yè)基礎(chǔ)的薄弱，才有了現(xiàn)在的這種情況。
目前市場(chǎng)上我們能夠自行生產(chǎn)的光刻機(jī)精度只有90納米級(jí)別，中芯國(guó)際升級(jí)的14納米技術(shù)其實(shí)并不是我們自己生產(chǎn)的設(shè)備，這個(gè)就很尷尬了，雖然說(shuō)上海微電跟科學(xué)院聯(lián)合研發(fā)出來(lái)了28納米的光刻機(jī)技術(shù)，但是這個(gè)目前來(lái)說(shuō)也只是在實(shí)驗(yàn)室里面的數(shù)據(jù)，離組裝到現(xiàn)實(shí)中使用，還不知道要到什么時(shí)候。
到此，以上就是小編對(duì)于上海工業(yè)機(jī)械配件加工的問(wèn)題就介紹到這了，希望介紹關(guān)于上海工業(yè)機(jī)械配件加工的1點(diǎn)解答對(duì)大家有用。
